Optical mask, and light source device
WO2009057349
Art A1
7. Mai 2009
Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009057349
- Aktenzeichen
- EP08777620
- Anmeldetag
- 26. Juni 2008
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/00G02B5/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hamamatsu Photonics K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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