Negative-working resist for formation of protrusions for liquid crystal alignment
WO2009057411
Art A1
7. Mai 2009
Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009057411
- Aktenzeichen
- EP08845453
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02F1/1337C08G61/10G03F7/032
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sekisui Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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