Novel sulfonic acid salt and derivative thereof, photoacid generator agent, and resist material and pattern formation method using the photoacid generator agent

WO2009057769 Art A1 7. Mai 2009

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009057769
Aktenzeichen: EP08845797
Anmeldetag: 31. Oktober 2008
Veröffentlichung: 7. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/12C07C381/12C07D207/46C08L27/12C08L45/00G03F7/004G03F7/039H01L21/027C08L33/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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