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WO2009059614 Art A1 14. Mai 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009059614
Aktenzeichen: EP07819613
Anmeldetag: 6. November 2007
Veröffentlichung: 14. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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