Lithographic apparatus and method

WO2009060294 Art A2 14. Mai 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V., TNO 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009060294
Aktenzeichen: EP08847199
Anmeldetag: 3. November 2008
Veröffentlichung: 14. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/30

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
TNO
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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