Process for producing intermediate structure and inspection apparatus

WO2009060755 Art A1 14. Mai 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009060755
Aktenzeichen: EP08847852
Anmeldetag: 28. Oktober 2008
Veröffentlichung: 14. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01R1/073C03B23/26C03C19/00C03C27/02H01L21/66H01R11/01H01R43/00H05K3/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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