Sno-Based Sputtering Target

WO2009060901 Art A1 14. Mai 2009

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009060901
Aktenzeichen: EP08846992
Anmeldetag: 6. November 2008
Veröffentlichung: 14. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/457

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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