Optical element for the reflection of uv radiation, method for manufacturing the same and projection exposure apparatus comprising the same

WO2009062665 Art A2 22. Mai 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009062665
Aktenzeichen: EP08848931
Anmeldetag: 12. November 2008
Veröffentlichung: 22. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B17/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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