Process for production of photoresist resins

WO2009063726 Art A1 22. Mai 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009063726
Aktenzeichen
EP08850828
Anmeldetag
21. Oktober 2008
Veröffentlichung
22. Mai 2009
Rechtsraum
WO
IPC
C08F6/06G03F7/26H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen