Process for production of photoresist resins
WO2009063726
Art A1
22. Mai 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009063726
- Aktenzeichen
- EP08850828
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 22. Mai 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F6/06G03F7/26H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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