Radiation-sensitive resin composition for forming spacer, spacer, method for forming spacer, and liquid crystal display device

WO2009063955 Art A1 22. Mai 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009063955
Aktenzeichen: EP08850742
Anmeldetag: 13. November 2008
Veröffentlichung: 22. Mai 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031C08F2/50C08F290/12G02F1/1339G03F7/033G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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