Photoresist composition with high etching resistance
WO2009069847
Art A1
4. Juni 2009
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009069847
- Aktenzeichen
- EP07860813
- Anmeldetag
- 31. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CHEIL INDUSTRIES INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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