Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate

WO2009071207 Art A1 11. Juni 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009071207
Aktenzeichen: EP08857837
Anmeldetag: 21. November 2008
Veröffentlichung: 11. Juni 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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