Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method

WO2009072405 Art A1 11. Juni 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009072405
Aktenzeichen: EP08856813
Anmeldetag: 14. November 2008
Veröffentlichung: 11. Juni 2009
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/00C08L9/00C08L23/08H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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