Process for production of crystalline kln film, process for production of semiconductor device, and semiconductor device

WO2009072585 Art A1 11. Juni 2009

Anmelder: Asahi Glass Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009072585
Aktenzeichen
EP08858141
Anmeldetag
4. Dezember 2008
Veröffentlichung
11. Juni 2009
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/08C23C14/34C23C14/58H01L41/18H01L41/22H03H3/02H03H9/17
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Asahi Glass Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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