Patterned crystalline semiconductor thin film, process for producing thin-film transistor and field effect transistor

WO2009075161 Art A1 18. Juni 2009

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009075161
Aktenzeichen: EP08859555
Anmeldetag: 14. November 2008
Veröffentlichung: 18. Juni 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/36H01L21/20H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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