Method and apparatus for removing polymer from the wafer backside and edge
WO2009075731
Art A1
18. Juni 2009
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009075731
- Aktenzeichen
- EP08860599
- Anmeldetag
- 28. November 2008
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/302H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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