Method for laser-based plasma production and radiation source, in particular for euv radiation
WO2009077943
Art A1
25. Juni 2009
Anmelder: Philips Intellectual Property & Standards GmbH, Koninklijke Philips Electronics N.V., Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009077943
- Aktenzeichen
- EP08862744
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Philips Intellectual Property & Standards GmbH
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇳🇱
Philips
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
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🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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