Method for pattern formation

WO2009078207 Art A1 25. Juni 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009078207
Aktenzeichen: EP08861647
Anmeldetag: 11. September 2008
Veröffentlichung: 25. Juni 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40C08F12/24C08F12/32C08F32/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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