Zinc oxide sintered compact, process for producing the zinc oxide sintered compact, sputtering target, and electrode formed using the sputtering target
WO2009078330
Art A1
25. Juni 2009
Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009078330
- Aktenzeichen
- EP08861550
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/453C23C14/34H01L31/04H01B5/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Metals, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Proterial
Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.
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Vertreten von
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