Very Low Pressure High Power Impulse Triggered Magnetron Sputtering

WO2009079358 Art A1 25. Juni 2009

Anmelder: The Regents of the University of California 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009079358
Aktenzeichen: EP08862338
Anmeldetag: 12. Dezember 2008
Veröffentlichung: 25. Juni 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Regents of the University of California
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of California

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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