Tin oxide-magnesium oxide sputtering target and transparent semiconductor film
WO2009081677
Art A1
2. Juli 2009
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009081677
- Aktenzeichen
- EP08863970
- Anmeldetag
- 21. November 2008
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/04C23C14/08H01L21/363H01L29/26H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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Vertreten von
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