Metal oxide semiconductor manufacturing method and semiconductor element using the same

WO2009081968 Art A1 2. Juli 2009

Anmelder: Konica Minolta Holdings, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009081968
Aktenzeichen
EP08864408
Anmeldetag
25. Dezember 2008
Veröffentlichung
2. Juli 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/428H01L21/268H01L21/336H01L21/363H01L21/368H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Konica Minolta Holdings, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Konica Minolta

Japanisches Technologieunternehmen, das Bürodrucksysteme, Multifunktionsgeräte, optische Geräte sowie Mess- und Sensortechnik herstellt.

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