Lithographic apparatus, method for levelling an object, and lithographic projection method

WO2009082226 Art A1 2. Juli 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009082226
Aktenzeichen: EP08865431
Anmeldetag: 22. Dezember 2008
Veröffentlichung: 2. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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