Resist for e-beam lithography

WO2009084775 Art A1 9. Juli 2009

Anmelder: Seoul National University Industry Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009084775
Aktenzeichen: EP08753253
Anmeldetag: 30. April 2008
Veröffentlichung: 9. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Seoul National University Industry Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University Industry Foundation

Die Seoul National University Industry Foundation ist die Technologietransfer-Organisation der Seoul National University in Südkorea. Das Patentportfolio verteilt sich auf Medizintechnik und Gesundheit, Pharma und Biotechnologie sowie Nachrichtentechnik, ergänzt durch organische Chemie und Halbleitertechnik. Anmeldungen laufen von 2000 bis 2021.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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