Method for fabrication of transparent gas barrier film using plasma surface treatment and transparent gas barrier film fabricated thereby

WO2009088214 Art A2 16. Juli 2009

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009088214
Aktenzeichen: EP09700787
Anmeldetag: 7. Januar 2009
Veröffentlichung: 16. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C08J5/18B32B27/16B32B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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