Photosensitive adhesive composition, filmy adhesive, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer, semiconductor device, and process for producing semiconductor device
WO2009090922
Art A1
23. Juli 2009
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009090922
- Aktenzeichen
- EP09702629
- Anmeldetag
- 9. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09J201/00C09J4/02C09J7/00C09J7/02C09J11/06C09J163/00C09J179/08C09J201/06H01L21/02H01L21/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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