Photosensitive adhesive composition, filmy adhesive, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer, semiconductor device, and process for producing semiconductor device

WO2009090922 Art A1 23. Juli 2009

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009090922
Aktenzeichen
EP09702629
Anmeldetag
9. Januar 2009
Veröffentlichung
23. Juli 2009
Rechtsraum
WO
IPC
C09J201/00C09J4/02C09J7/00C09J7/02C09J11/06C09J163/00C09J179/08C09J201/06H01L21/02H01L21/52
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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