Capacitor, semiconductor device, method for manufacturing the capacitor, and method for manufacturing the semiconductor device

WO2009090979 Art A1 23. Juli 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009090979
Aktenzeichen: EP09701551
Anmeldetag: 15. Januar 2009
Veröffentlichung: 23. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/822H01L21/8242H01L27/04H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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