Surface inspection apparatus and surface inspection method

WO2009091034 Art A1 23. Juli 2009

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009091034
Aktenzeichen: EP09702161
Anmeldetag: 16. Januar 2009
Veröffentlichung: 23. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/24H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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