Method for forming resist pattern and resist pattern miniaturizing resin composition

WO2009093686 Art A1 30. Juli 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009093686
Aktenzeichen: EP09704466
Anmeldetag: 23. Januar 2009
Veröffentlichung: 30. Juli 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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