Method for etching of insulating layers using carbon nanotubes and formation of nanostructures thereafter
WO2009093770
Art A1
30. Juli 2009
Anmelder: Postech Academy-Industry Foundation 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009093770
- Aktenzeichen
- EP08704968
- Anmeldetag
- 25. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 30. Juli 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B82B3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Postech Academy-Industry Foundation
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Postech Academy-Industry Foundation
Die Postech Academy-Industry Foundation ist die Technologietransferstelle der südkoreanischen Universität POSTECH mit Sitz in Pohang. Die Patente stammen aus Forschungsprojekten in Materialwissenschaft, Elektronik und Chemie.
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