Method for defining and producing reactive chemical nanomemtric surface patterns by means of gaseous-phase soft lithography, resulting patterns and devices and uses thereof

WO2009095520 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Consejo Superior De Investigaciones Científicas 🇪🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009095520
Aktenzeichen: EP09706017
Anmeldetag: 23. Januar 2009
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00B41M3/00B81C1/00C12Q1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Consejo Superior De Investigaciones Científicas
Land: 🇪🇸 Spanien

🇪🇸 Consejo Superior de Investigaciones Científicas

Größte staatliche Forschungseinrichtung Spaniens mit Sitz in Madrid, tätig in nahezu allen Wissenschaftsbereichen von Naturwissenschaften bis Geisteswissenschaften. Die Institution (CSIC) betreibt zahlreiche Forschungszentren im ganzen Land.

1.355 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Pharma & Biotechnologie Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von