Silylated copolymers with silsesquioxane groups, preparation method thereof and use of same as highly photostable laser matrices

WO2009095521 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Consejo Superior De Investigaciones Científicas 🇪🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009095521
Aktenzeichen: EP09706996
Anmeldetag: 23. Januar 2009
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/06C08F283/12G02B1/04H01S3/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Consejo Superior De Investigaciones Científicas
Land: 🇪🇸 Spanien

🇪🇸 Consejo Superior de Investigaciones Científicas

Größte staatliche Forschungseinrichtung Spaniens mit Sitz in Madrid, tätig in nahezu allen Wissenschaftsbereichen von Naturwissenschaften bis Geisteswissenschaften. Die Institution (CSIC) betreibt zahlreiche Forschungszentren im ganzen Land.

1.355 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von