Thin film forming method, plasma film forming apparatus and storage medium

WO2009096095 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009096095
Aktenzeichen: EP08871842
Anmeldetag: 8. Dezember 2008
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285C23C14/32H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von