Method of aftertreatment of amorphous hydrocarbon film and method for manufacturing electronic device by using the aftertreatment method

WO2009096251 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009096251
Aktenzeichen: EP09706537
Anmeldetag: 19. Januar 2009
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768C23C16/26H01L21/312H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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