Semiconductor device manufacturing method, semiconductor device, electronic device, semiconductor manufacturing apparatus and storage medium

WO2009096264 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009096264
Aktenzeichen: EP09705110
Anmeldetag: 20. Januar 2009
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768C23C16/40H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von