Apparatus for repairing photomask and repairing method using same

WO2009096728 Art A2 6. August 2009

Anmelder: Korea Research Institute of Standards and Science, Nanofocus Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009096728
Aktenzeichen: EP09705978
Anmeldetag: 30. Januar 2009
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Korea Research Institute of Standards and Science
Nanofocus Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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