System and method for pre-ionization of surface wave launched plasma discharge sources

WO2009096951 Art A1 6. August 2009

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009096951
Aktenzeichen: EP08728496
Anmeldetag: 30. Januar 2008
Veröffentlichung: 6. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: A62D3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Sport, Freizeit & Sicherheitstechnik

Vertreten von