Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, kit for preparing the dispersion, method for preparing aqueous dispersion for chemical mechanical polishing using the kit, and chemical mechanical polishing method for semiconductor device
WO2009098951
Art A1
13. August 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009098951
- Aktenzeichen
- EP09708149
- Anmeldetag
- 23. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 13. August 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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