Method for cleaning semiconductor wafer and device for cleaning semiconductor wafer

WO2009099138 Art A1 13. August 2009

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Reo Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009099138
Aktenzeichen: EP09707266
Anmeldetag: 5. Februar 2009
Veröffentlichung: 13. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Reo Laboratory Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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