Method for manufacturing semiconductor device

WO2009101664 Art A1 20. August 2009

Anmelder: Fujitsu Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009101664
Aktenzeichen: EP08872444
Anmeldetag: 1. Dezember 2008
Veröffentlichung: 20. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/60C01B31/02H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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