Coating composition for semiconductor device protection film

WO2009101938 Art A1 20. August 2009

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009101938
Aktenzeichen: EP09710193
Anmeldetag: 10. Februar 2009
Veröffentlichung: 20. August 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312C09D7/12C09D101/02C09D129/04C09D139/06C09D201/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von