Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
WO2009104343
Art A1
27. August 2009
Anmelder: Renesas Technology Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009104343
- Aktenzeichen
- EP08872619
- Anmeldetag
- 25. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 27. August 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/82H01L21/3205H01L21/768H01L21/822H01L21/8246H01L23/52H01L27/04H01L27/105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Renesas Technology Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Renesas Technology
Renesas Technology war ein japanischer Halbleiterhersteller und Vorgängerunternehmen der heutigen Renesas Electronics. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Datenspeicher- und Schaltungstechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2009.
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