Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method

WO2009106253 Art A1 3. September 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009106253
Aktenzeichen: EP09714456
Anmeldetag: 18. Februar 2009
Veröffentlichung: 3. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/02G01B11/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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