Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing method using the same, and method for regenerating aqueous dispersion for chemical mechanical polishing

WO2009107472 Art A1 3. September 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009107472
Aktenzeichen: EP09715262
Anmeldetag: 6. Februar 2009
Veröffentlichung: 3. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B24B37/00C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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