Projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method

WO2009107510 Art A1 3. September 2009

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009107510
Aktenzeichen: EP09714172
Anmeldetag: 17. Februar 2009
Veröffentlichung: 3. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/00G02B13/18G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von