Radiation-sensitive composition, polymer and monomer
WO2009110388
Art A1
11. September 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009110388
- Aktenzeichen
- EP09718245
- Anmeldetag
- 27. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 11. September 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F20/26G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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