Lithographic apparatus, plasma source, and reflecting method

WO2009110793 Art A1 11. September 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009110793
Aktenzeichen: EP09716858
Anmeldetag: 3. März 2009
Veröffentlichung: 11. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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