Device for measuring pattern length and method for measuring pattern length

WO2009113149 Art A1 17. September 2009

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009113149
Aktenzeichen
EP08721711
Anmeldetag
10. März 2008
Veröffentlichung
17. September 2009
Rechtsraum
WO
IPC
G01B15/00G03F1/08H01J37/22
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Advantest Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

610 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von

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