Multi-column electron beam photolithography system

WO2009113169 Art A1 17. September 2009

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009113169
Aktenzeichen
EP08721998
Anmeldetag
13. März 2008
Veröffentlichung
17. September 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F7/20H01J37/141H01J37/153H01J37/305
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Advantest Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

610 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von

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