Method and apparatus for etching silicon-containing films

WO2009113402 Art A1 17. September 2009

Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009113402
Aktenzeichen: EP09720801
Anmeldetag: 26. Februar 2009
Veröffentlichung: 17. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H05H1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sekisui Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sekisui Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.

2.973 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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